“你怎么知道采用ArF技术会造成更多的线边波动和不规则性？

关于ArF技术路线，在IEEE的杂志上有，但是无论是尼康还是佳能的工程师发表在上面的论文，都只说了好处没有说缺陷。”林本坚惊讶地问。

周新说：“尼康和佳能为了误导竞争对手，故意不谈ArF技术路线的缺点。

为的就是让竞争对手也踩到这个坑里去。

他们已经投入了大笔研发经费到ArF技术路线，没有找到办法解决ArF光源带来的线边波动和不规则性问题，所以他们认为其他竞争对手也解决不了这个问题。”

林本坚默默点头：“没错。

就是这样。”

周新继续说：“在技术路线上误导竞争对手，这不是集成电路领域的常规操作吗？”

林本坚还是很好奇，他知道ArF技术路线的缺陷，是因为他从事这个领域的研究超过二十年，他有大量的人脉。

由于保密协议的缘故，他的朋友无法直接告诉他，只能通过暗示的方式，向他透露ArF技术路线有重大缺陷。

他对此也只是猜测，没有证据的猜测。

为什么周新能够说得如此笃定，并且把ArF技术路线的缺陷也说得如此清楚。

要知道有资格进行ArF技术路线实验的实验室，也就那几家光刻机公司。

周新战术喝水之后说：“林伯，我知道你在想什么，我是不是买通了尼康的技术人员，从他们那获得了技术机密。

实际上ArF技术路线的缺陷，这很容易就推理出来。

ArF光源的波长为193纳米，相较于KrF光源的248纳米波长更短。短波长光源在光刻过程中，显然会受到更严重的散射、衍射和光学近场效应的影响，导致图案传输过程中的线边波动和不规则性增加。

同时使用ArF光源的光刻技术用于更先进的制程节点中，这导致晶圆需要实现更高的分辨率。

随着尺寸的缩小，光刻过程中的图案边缘更容易受到光学近场效应、衍射和光刻胶吸收等因素的影响，从而导致线边波动和不规则性。

这是基于物理知识的推论。”

林本坚鼓掌，“精彩的推演和敏锐的洞察力。

当时正明和我说他从燕大找到了天才学生的时候，我还在想到底有多天才，让他那么得意。

你在这方面的天赋比我猜测的还要更出色。

伱刚刚说的还差了两点。

一点是ArF光源的波长更容易被光刻胶吸收，这会导致光刻胶的曝光不均匀，进而影响成像质量。所以需要专门针对ArF光源设计专门的光刻胶。

但是专门针对ArF光源设计光刻胶，来减少吸收呢，新光刻胶又很有可能会进一步造成线边波动和不规则性。

另外采用ArF来构建先进制程，会采用多重曝光技术、相位移光掩膜技术和偏振光技术等。 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第1页/共4页