从1985年发表该论文以来，一直有各种研究试图改进该模型。

94年的时候有试图通过薄氮化氧化物来优化该模型的，95年有通过电子的热再发射来优化。

本站域名已经更换为www.adouyinxs.com 。请牢记。但是这些研究都是通过物质层面，通过改变晶体管材料，来实现优化MOSFET晶体管的目的。

迟迟没有从数学模型层面出发，很好优化胡正明的MOSFET模型的结果。

要知道此时离1985年过去了十三年。

远在旧金山湾区的胡正明教授，每天早上和往常一样，先查阅一遍自己的邮箱。

电子邮箱已经有十来年的历史，这十来年里，受益于电子邮箱，来自世界各地的科学家们交流变得更加频繁。

对于胡正明来说，每天到办公室的第一件事，也从查收纸质邮件，变成了查收电子邮件。

一封名为MOSFET模型优化的邮件，很快吸引了他的注意。

毕竟作为该模型的创造者，胡正明本人也希望能够进一步优化它。

可惜不管是他本人，还是其他科学家，都没有谁能够从数学模型的角度，对MOSFET进行优化。

“......这种临界能量和观察到的时间依赖性可以用涉及= Sis H键断裂的物理模型来解释。器件寿命与 I-2sub 9 I1d9ΔV15t成正比。如果由于 L小或 Vd大等原因导致 Isub变大，则τ会变小。因此，Isub（可能还有光发射）是τ的有力预测因子。

已发现比例常数因不同技术而异，相差 100倍，这为未来通过电介质/界面技术的改进提供了显着提高可靠性的希望。一个简单的物理模型可以将沟道场 Em与所有器件参数和偏置电压相关联。描述了它在解释和指导热电子缩放中的用途。”

因为胡正明构建的数学模型很简单，简单的描绘了MOSFET退化的本质。

越是简单的模型，越难进行优化。

但是这封邮件，为胡正明提供了一个新的角度来对这个问题进行思考。

优化后的数学模型，能够解释更多的现象，从而对热电子缩放的现象进行更好的监控。

为了看这封邮件，胡正明完全忘了还有咖啡这回事。

他看完核心部分后，再回过头去看了眼是谁发给他的邮件，zhouxin@pku.，来自燕大的邮件。

“周新？我没听过燕大半导体领域有这么一号人物啊？而且按理来说不应该**文吗？”胡正明内心很是纳闷。

能够做出这种级别创新的一般来说，不会是什么无名之辈。

胡正明又看了下邮件的最后部分，邮件最后部分表达了希望来他手下读博。

胡正明这下才懂，对方为什么给他发这封邮件。

原来是通过这种方式来吸引他的注意力。

之前他也收到过华国学生寄来类似的邮件，通过表达自己对科研的看法，以及读一些论文之后的想法，试图从他这里获得一封推荐信。

放在二十年后，这叫套磁。

只是这些华国学生的跨国邮件充其量只是一个想法。

而周新发过来的，补充一点总述，就称得上一篇完整的论文，而是是可以发顶刊的论文。

胡正明打算回一封邮件给对方，打一通电话，详细聊聊。

如此高质量的论文，出自一名大学生之手还是很罕见的。

胡正明希望通过直接通话，对对方的水平进行进一步的确认。

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